产品介绍: |
品牌:韩国MIDAS
型号:MDA-400M
产地:韩国
价格:面议
产品描述:
又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等; MIDAS为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。 此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比最高的型号,达到欧美品牌的对准精度,CCD显示屏对准更为方便,液晶触摸屏操作,采用欧司朗紫外灯,寿命长。整机效果皮实耐用。
主要特点: - 光源强度可控; - 紫外曝光,深紫外曝光(Option); - 系统控制:手动、半自动和全自动控制; - 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式; - 真空吸盘范围可调; - 专利技术:可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式 - 两个CCD显微镜系统,最大放大1000倍,显示屏直接调节,比传统目镜对准更方便快捷,易于操作。 - 特殊的基底卡盘可定做; - 具有楔形补偿功能;
技术参数: - 基片尺寸:4、6、8、12、25英寸,其他尺寸可定制; - 光束均匀性:<±3%; - 曝光时间可调范围:0.1 to 999.9秒; - 对准精度:0.6-1微米 - 分辨率:1微米; - 光束输出强度:15-25mW/cm2;
|
项目 |
技术规格 |
曝光系统(Exposure System) MDA-400M型 |
光源功率 |
350W UV Exposure Light source with Power supply |
分辨率 |
- Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer ) - Hard Contact : 1um - Soft contact : 2um - 20um Proximity: 5um |
最大光束尺寸 |
4.25×4.25 inch |
光束均匀性 |
≤ ±3% (4inch standard) |
光束强度 |
15~20mW/cm2 (365nm Intensity) |
曝光时间可调整 |
0.1 to 999.9 sec |
对准系统(Alignment System) |
对准精度 |
1um |
对准间隙 |
手动调节(数字显示) |
光刻模式 |
真空, 硬接触, 软接触,渐进(Proximity) |
卡盘水平调节 |
楔形错误补偿Wedge Error Compensation |
真空卡盘移动 |
X, Y: 10 mm, Theta: ±5° |
Z向移动范围 |
10mm |
接近调整步幅 |
1um |
样品(Sample) |
基底 Substrate |
2, 3, 4 inch |
掩模板尺寸 |
4 and 5 inch |
Utilities |
真空 Vacuum |
< -200 mbar (系统包含真空泵) |
压缩空气 CDA |
> 5Kg/cm2 |
氮气 N2 |
>3Kg/cm2 |
电源 Electricity |
220V, 15A, 1Phase |
显微镜及显示器 CCD and Monitor |
Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x; |
|